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硅酸锂加热

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简述信息一览:

半导体工艺废气电加热解决方案和其技术特点

1、半导体酸废气处理通常***用碱液体喷淋法,又称化学洗涤法。因液体自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而达到大气排放标准,故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍***用的主要处理方法。

2、掺杂工艺:热扩散与离子注入工艺产生的主要废气为含磷烷、砷烷的酸性废气。清洗工艺:酸、碱与有机溶剂的使用产生废气,清洗液种类根据去除对象的不同而变化。半导体废气处理技术与系统:废气通过分类密闭收集,分为酸性、碱性、有机、一般尾气等。处理系统包括本地(POU)与中央处理系统。

 硅酸锂加热
(图片来源网络,侵删)

3、热氧化工艺:产生酸性废气,主要来源于未反应的含卤素氧化剂。化学气相沉积:产生的废气种类各异,包括未反应原料气和生成的酸性气体,如SiHSiClSiH2ClPHHF、HCl、NH3等。物理气相沉积:以惰性气体为介质,主要产生固废,但也可能产生少量废气。

4、优点:适合于温度低、中高浓度的废气,能够有选择性地吸收硫化氢等废气,工艺流程简单,且不需外加蒸汽和外加其他热源。

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